镍铬铁铝氮化硼二氧化硅，镍铬铁铝氮化硼二氧化硅反应

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溅射靶材的主要应用？

溅射靶材主要应用。是一种表面处理技术，通过在材料表面上放置一种称为“靶材”的材料，使用高能离子或电子束等能量源将该材料加热和蒸发，使其沉积在待处理表面上形成薄膜。溅射靶材是用于溅射过程中的靶材料，可以是金属、合金、氧化物等。

溅射和溅射靶材的区别在于，溅射是一种表面处理技术，而溅射靶材是用

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